日立／フラットミリング装置／E-3200　管理番号03212

走査電子顕微鏡（SEM）や表面分析装置（AES,ESCA,SIMSなど）用試料の前処理装置。
アルゴンのイオンビームを試料表面に照射して約5mm径の範囲をスパッタエッチングすることができます。
年式　：　2008年式
イオンガン　：　イオンガンタイプ：ホローカソード／アノード形1本
　　　　　　　　　印加電圧：0～6kV（連続可変）
　　　　　　　　　放電電流：0～1.5mA（1.5mAリミッタ回路付）
　　　　　　　　　タイマー：セット数字 0～999（時間単位0.1s,1s,0.1m,1m,0.1h,1h,10h 7段階）
　　　　　　　　　ミリングレート　スポットミリング：300nm/min(Cu)
　　　　　　　　　フラットミリング：50nm/min(Cu)(φ5mm）
試料ステージ　：　回転：約25min-1
　　　　　　　　　　　傾斜10～90°
　　　　　　　　　　　試料サイズ（最大）：φ25mm（直径）×15mm（高さ）
放電ガス　：　ガス：純アルゴンB（99.999%以上）
　　　　　　　　圧力・流量：0.03MPa・5cm3/min
　　　　　　　　流量調整：N.V（ニードルバルブ）／M.F.C（マスフロー）切替可能
排気系　：　全自動高真空排気系
　　　　　　　油拡散ポンプ D.P.（4インチ）：400dm3/s
　　　　　　　ロータリーポンプ R.P.：140dm3/min（本商品には付属しておりません）
　　　　　　　到達真空度：5×E-4Pa（新品時）
　　　　　　　動作真空度：5×E-2Pa（新品時）
冷却水　：　流量1～1.5dm3/min、50～100kPa、10～25℃（本商品にチラーは付属しておりません）
光学顕微鏡　：　ズーム式実体顕微鏡（23.1～90倍）
電源　：　AC100V 50/60Hz 15A
寸法・重量　：　W700×D525×H1250（mm）・約100kg