トプコン／投影機／VP-300 管理番号04464
・1998年式【仕様】投影レンズ 倍率（倍） 10 20 50 視野径(mm) 30.5 15.25 6.1 作動距離(mm)74.5 73.0 61.5 測定物の最大段差(mm) 72 70 58 測定物の最大径(mm) 160 160 150回転スクリーン・投影面の有効径：305mm（十字線入）・回転角：360°、バーニア読1′（微動つまみ付）ステージ・回転ステージ・ステージストローク：…
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ZYGO／小口径干渉計／PTI250 管理番号04294
計測方法：位相シフト干渉法 標準測定口径：1インチ（25㎜） ズームレンジ：1×固定 フォーカス範囲：±250㎜設置形態：アップワードタイプ高さ分解能：λ/8000以上使用ソフト：MetroPro 電源：AC100～240V 50/60Hz 【機器ステータス】 ソフト取扱説明書有（Met…
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ソニー／テクノルック／TW-TL1V 管理番号04285
￥１４０，０００．－ （送料／消費税別途） 2006年式 総合倍率：約4～40倍(7インチモニター上) ズームレンズ：10倍 照明：白色PowerLED灯 8灯搭載 レーザーポインター 電源：AC100V～240V 重量：約5.6kg 取扱説明書有 `21…
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ライカ／実体顕微鏡／S6D 管理番号04274
￥１５０，０００．－ （送料／消費税別途）2005年式 総合倍率 6.3～40倍 作動距離 110mm ズーム比 6.3:1 接眼鏡筒俯角 38° 接眼レンズ 10×視野数23…
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三鷹光機／三次元形状測定顕微鏡／NH-3 管理番号04244
対物レンズ：×20、×50、×100 Z軸分解能：0.01μm Z軸測定可能範囲：10mm XY分解能：0.1μm XYストローク：150×150mm 測定機能：三次元形状測定・断面形状測定・粗さ測定、 【機器ステータス】 取扱説明書有`2…
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駿河精機／マイクロマニピュレーターシステム／UGO224 管理番号03908
2007年式 商品構成： ①マニピュレータ部（前後15mm、左右15mm、上下30mm、分解能0.1μm/パルス） ②XYステージ部（前後100mm、左右100mm、分解能0.1μm/パルス） ③モータコントローラ 型式M331（左右マニピュレータ、XYステージ用） ④電動ズームレンズ（ユニオン光学製 DZ3） ⑤手元ターミナル ⑥CCDカメラ ⑦パソコン …
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ニコン／オートコリメーター／6D 管理番号03637
【仕様】 ・暗視野仕様（2軸同時測定タイプ） ・光源ランプ：6V15W ・光源ランプ調整器：100V 50/60Hz 30W 【機器ステータス】 ・交換用バルブ付属 反射面を用いて、対象物の微小角の差、変化、振れ等を読み取り、真直度、直角度、平行度…
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レーザーテック／レーザー顕微鏡／1LM15W 管理番号03800
レーザー光：He-Ne 632.8nm、CW 0.1mW 顕微鏡：オリンパス製 BH3-MJL 総合倍率：100,200,500,1000,1500× Ｚ軸コントローラ型式：1ZC1 付属品：卓上除振台、専用プリンター（UP-880） 【…
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駿河精機／空気ばね式防振台／J02-1510C 管理番号92934
年式 ： 2003年 品名 ： 普及型スチールハニカム空気ばね除振台 除振方式 ： 全方位対応3次元空気ばね 設定空気圧力 ： 0.25MPa 寸法 ： W1500×D1000×H800mm 定盤厚さ ： 210mm 最大搭載荷重 ： 300kg 製品質量 ： 325kg …
日本電子／クロスセクションポリッシャー／SM-09010 管理番号03340
試料上面にセットされた遮蔽板にイオンビームを垂直に照射し、断面形成させる試料作製装置です。 年式：2006年 イオン加速電圧：2～6kV イオンビーム径半値幅：500μm（加速電圧6kV,試料Si） ミリングスピード：1.3μm/min 以上（加速電圧:6KV、試料Si） 最大搭載試料サイズ：幅11㎜×長さ9㎜×厚さ2㎜ `…
島津製作所／走査型プローブ顕微鏡／SPM-9600 管理番号03484
2007年式 動作モード：コンタクトモード、ダイナミックモード、位相モード、電流モード（KFM）、 水平力モード（LFM）、磁気力モード（MFM）、表面電位モード（KFM） 分解能：水平0.2nm 垂直0.01nm 最大走査範囲（X・Y・Z）： 30μm×30μm×5μm Z軸機構：ステッピングモーターによる全自動機構 `11…
NTG社／パッケージ開封装置／Dcap2 id 管理番号：03111
主な用途 ： SEMの前処理装置 モールドされたICをエッチングして半導体検査 年式 ： 2003年 エッチング温度 ： 20～250℃（温度精度±2℃） 電圧 ： AC 95～250V 50/60Hz 4A 使用薬液 ： 自動混酸 （6:1～1:1）、H2SO4、FHNO3 `16…
日立／フラットミリング装置／E-3200 管理番号03212
走査電子顕微鏡（SEM）や表面分析装置（AES,ESCA,SIMSなど）用試料の前処理装置。 アルゴンのイオンビームを試料表面に照射して約5mm径の範囲をスパッタエッチングすることができます。 年式 ： 2008年式 イオンガン ： イオンガンタイプ：ホローカソード／アノード形1本 印加電圧：0～6kV（連続可変） …
ビューラー／精密平面研磨システム／MPC3000 管理番号03074
ICチップの裏面研磨、ウェハ表面の膜、多層パターンの段階的な削除ができます。 研磨盤回転数 ： 10～490RPM 試料装着ユニット ： 加熱／冷却ユニット（最高温度110℃）、真空ポンプ内蔵 研磨固定冶具 ： 1μ m読みデジタルマイクロメータ、揺動装置接続 電源 ： AC100V 50/60Hz 750W`14…
駿河精機／マイクロマニピュレーターシステム／UG0224 管理番号02995
製品概要：製品上の浮遊異物の除去装置 2007年式 商品構成： ①マニュピレーター部（前後15mm、左右15mm、上下30mm） ②XYステージ部（前後100mm、左右100mm／手動ステージ付属／手動回転機構有） ③モーターコントローラー型式M331（左右マニュピレーター用、XYステージ） ④電動ズームレンズ（ユ…
