マルトー ストロングパワーカッター MC-435L 管理番号08681
【本体】・主軸回転数：1200/1800r／min 2段プーリー式・切断方式：乾式・湿式・テーブル送り方式：送りネジ軸による手動ハンドル送り式・テーブルストローク：360mm・テーブル寸法：W300×L425mm・使用砥石径：φ200～φ400×30Hmm・外寸：W90×L1500×H1345mm (突起部含む カバー閉時)・電源：三相 200V (0.75KW)・質量：約200ｋｇ【付属品】 …
バンガードシステムズ 半自動テーピング装置 VS-120 管理番号08713
逆走行モデルテーピングスピード：約0.75s適用テープサイズ：幅 8、12、16、24、32、44、56mm ：ピッチ」 4～56mm(4mmピッチ単位)シール圧力：1～10Kgfシール方法：ダブルシール(24mmまで) シングルシール(28mm以上)供給リールサイズ：φ600mm巻き取りリールサイズ：φ380mm(MAX)寸法：約 W1200×D360×H465mm重量：約20kg…
シンキー 撹拌脱泡ミキサー ARE-310 管理番号08637
￥２0０，０００．－（送料／消費税別途）・方式 ： 自転・公転プロペラレス混和方式・タイマー設定範囲 ： 0～30分・プログラミング機能 ： 10メモリー・回転速度 ： 撹拌モード 公転STDモード2000rpm（固定） 公転STEPモード０、200～2000rpm（可変） ※自転STD、STEPとも公転に約１／２で追従 脱泡モ…
シンキー 撹拌脱泡ミキサー（あわとり練太郎） AR-250 管理番号08712
￥２５０，０００．－（送料／消費税別途）・ タイマー設定範囲 ： 10秒～30分・ 公転速度 ： ミキシングモード2000rpm、脱泡モード2200rpm・ 自転速度 ： ミキシングモード800rpm、脱泡モード60rpm・ 寸法 ： 約W300×D290×H390mm・ 重量 ： 約22kg・ 電源 ： 単相100V 50/60Hz※取扱説明書及び容器は未付属となります。 【機器ステータス】…
島津製作所 マイクロビッカース硬度計 HMV-G20S 管理番号08697
【仕様】・年式 ： 2016年・固定試験力 ： 98.07mN～19.61N（HV0.01～HV2）※9種類・負荷装置 : 自動切換・自動負荷方式・試験力保持時間 ： 5～999sec※秒単位で設定可能・圧子 ： ダイヤモンド正四角すい圧子（対面角 136°）・対物レンズ ： ×40・電動ﾚﾎﾞﾙﾊﾞ ： なし・試料ステージ ： 100×100mm・本体外寸法 ： 約 W350×D570×H5…
キーエンス YVO4SHGレーザマーカ MD-T1010W 管理番号08709
・ 年 式 ： 2014年・ 印字レーザー ： YVO4レーザー（クラス4）・ 印字レーザー波長 ： 532nm（グリーンレーザー）・ 印字レーザー出力 ： 4W（30kHz時）・ マーキングスペース： 80×80mm・ ワークディスタンス ： 189mm・ 印字分解能 ： 2μm・ スキャンスピード ： 最大12000mm/s・ 印字サイズ ： 0.0…
販売済
アシザワ・ファインテック 湿式微粉砕機 ラボスター ミニ LMZ015 管理番号08682
・型式：LMZ015・年式：2010年・ビーズミル回転数：1295 ～4200rpm(無負荷時)・ビーズミル周速：4～13m/sec(無負荷時)・処理量：～0.2 L/min(ｽﾗﾘｰ性状、ビーズ径による)・ベッセル容量：0.15 L・溶液部材質：ベッセル：ジルコニア強化型アルミナ ローター：PSZ スクリーン：SUS316L・冷却媒体：チラー水・外寸：約W1510×D77…
アルバック 小型真空蒸着装置 VPC-260F 管理番号08642
・操作：手動式・真空槽：ガラスペルージャ（内径 約φ300mm×高さ 約300mm）・蒸発電極：２極切換え(COM共通)・蒸発電源：0～10V 150A MAX (SEREM PSE-150C)・メインポンプ：油拡散ポンプ(空冷) 200L/sec・補助ポンプ：油回転真空ポンプ 100L/min・メインバルブ：クラッパーバルブ・補助バルブ：三方向バルブ・外寸・重量：本体 約W530×D550×H1…
アユミ工業 ガラス熱融着システム EB-45D 管理番号08136
年式：2003年処理物：30×70mm or 60×70mmのパイレックス同士処理量：1治具／１バッチ加熱温度：MAX900℃雰囲気ガス：置換ガス 2種類導入可能真空槽寸法：W500×L445×H300材質：SUS304冷却：水冷パイプ方式荷重量：1000kg操作モード：自動運転モード、手動運転モード、設定モード外寸：約 W1115×D1170×H1973mm重量：約1300kg[ユーティリティ]…
キーエンス 3Axis YVO4レーザーマーカー MD-V9910 管理番号08246
印字方式 ： XYZ3軸同時スキャニング方式印字レーザ ： YVO4レーザ波長 ： 1064nm平均出力 ： 13Wガイドレーザ ： 半導体レーザマーキングスペース ： 120×120×42mm基準ワークディスタンス（±可変動） ： 189mm（±２1mm）印字分解能 ： 2μmスキャンスピード ： 最大1200mm/ｓｙｐｅ印字種類 ： オリジナルフォント、ユーザフォント/ＴｒｕｅＴｙｐｅフォン…
キーエンス CO2レーザーマーカー ML-G9300 管理番号08247
型式 ： ヘッド ML-G9371 コントローラ ML-G9300印字レーザ ： CO2レーザ(クラス４)波長 ： 10.6μm平均出力 ： 30Wガイドレーザ ： 半導体レーザ(クラス２) 波長 655nmマーキングエリア ： 30mm□ワークディスタンス ： 65±1mm印字分解能 ： 1μmスキャンスピード ： 最大 6000mm/ｓラインスピード ： 120m/分印字種類 ： オリジナルフ…
三永電機製作所 紫外線均一露光装置 UVE-2001S 管理番号08163
【構成】 ・光源ユニット UVE-2001S 使用ランプ：2KW超高圧水銀ランプ 有効照射径：330mm(ｶﾀﾛｸﾞ値) UV強度：180mW/cm2(測定波長365nm時-ｶﾀﾛｸﾞ値) ・照射ユニット EL-100 照射距離：200mm(ｶﾀﾛｸﾞ値) ・電源ユニット UVC-2001S シャッター機能：手動及びタイマー制御(0.1S～9990Hr) 光量調…
オリオン ユニットチラー RKS-400V-A1 管理番号08148
・ 冷凍能力 (50/60Hz) ： 0.89/1.025kW・ 使用周囲温度範囲 ： 5～40℃・ 使用液温度範囲 ： 5～25℃・ 冷却用循環ポンプ使用循環量 ： 15L/min以上・ 水槽実容量 ： 約35L・ 電源 ： AC200V 3φ 50/60Hz・ 消費電力 (50/60Hz) ： 0.49/0.61kW・ 外寸 ： W550×H950×D450mm（突起物除く）・ 重量 …
光洋サーモシステム 高温雰囲気ボックス炉 KB8610N-VP 管理番号08135
・操 作 方 式 ： タッチパネル及びデジタルプログラマによる制御・最高使用温度 ： 1200℃（真空中）・常用使用温度 ： 1100℃（真空中）・炉 内 寸 法 ： W205 x D255 x H165mm・付属機器類 ： タッチパネル、圧力計、ピラニ真空計、デジタルプログラム調温計 過昇防止計、ヒーター電流計、N2流量計など・真空到達圧力 ： 6.7 X 10の2乗Pa未満…
協和界面科学 接触角測定器 CA-A 管理番号07879
￥３５０，０００．－（送料／消費税別途）年式：1997年・試料寸法：W65×D35mm・測定方法：液適法滑落法・測定読取：1°・液量制御・吐出：手動・個体への着滴操作ステージZ軸移動：手動・測定ポイント移動ステージX軸移動：手動・測定ポイント移動ステージθ軸移動 ：電動(操作は手動)・接触角解析：目視・手動・視野 スタンダード：W6.6×H5.0mm・ステージ可動範囲：左右約50mm・外寸･重量：…
ウシオ電機 コンベア式UV照射装置 UVC-07516S1-DV01 管理番号08080
主な照射波長域：200～450nmランプ発光長：750mmランプ：メタルハライドランプ（型式UVL-12K1M3、寿命：約1000時間）照射方向：下向き安定時間・再点灯時間：最大3分、最小5分照度制御：ランプ電力により制御 ランプ電力切替制御 80、120、160W/cmステップ ボリュームツマミによる連続調光制御 80～160W/cmワーク通過幅：750mm maxワーク通過高：…
アズワン セラミックホットプレート CHP-400AN 管理番号08611
プレートサイズ：400x300最高温度：約350℃温度設定：ボリューム設定方式温度制御：K型熱電対によるPID制御安全装置：過電流ヒューズ・恒温警告表示ヒーター：マイカヒーター1400Wプレート材質：セラミック本体材質：アルミダイキャスト外寸：約W420×D420×H100mm重量：約8.3kg電源：AC100V 50/60Hz 【機器ステータス】取扱説明書あり 【半導体製造装置】 …
井上製作所 三本ロールミル機 S-4 3/4×11 管理番号08029
【本体】 年式：2006年 ロール寸法：Φ121×L280mm 前ロール回転数：60～180 r/min ロール回転比： 1 : 2.6 : 6.8 ブレーキモーター：0.75kW 4P 温調：水冷・ロータリージョイント式(サイトグラス・温度計付) サイトマチック：Oリング式 圧力計 15Mpa 急停止装置：ブレーキモーター方式 キノコ型押ボタンスイッチ-前後各1個 膝…
商談中
富士商工マシナリー ダイイングマシン UDP3000 管理番号08065
￥３００，０００．－（送料／消費税別途）年式：1999年加圧能力：3tonストローク長さ：30mmストローク数：150spmダイハイト：98.5mmスライド調整量：5mmシャンク孔：φ25mmモーター：0.25Kwボルスター：200×160mm工程：寸動／手動→工程スライド調整方式：手動クラッチ＆ブレーキ：エアーフリクション給油装置：手動グリス外寸：約W530×D770×H1180mm重量：約54…
ウシオ電機 エキシマ照射処理装置 UVS-TE200-BG 管理番号08024
<基本仕様> 適合ワークサイズ：Φ200mm ホットプレート材質：アルミ合金 (表面硬質アルマイト処理) ホットプレート温度範囲：常温～120℃ (プレート表面) 処理方法：枚葉処理 紫外線光源：誘電体バリア放電エキシマランプ 露光波長：中心波長 172nm (半径幅14mm) 露光照度：初期値 5.5mW/c㎡ 以上(照射窓面で測定) 照射距離：0.5mm～20.0mm(照射窓下面～ワー…
クラボウ 遊星式撹拌機 MAZERUSTAR KK-1000W 管理番号08059
○年式 ： 2009年式○最大処理量 ： 1容器あたり約500mlかつ1kg（容器・アダプタ含む）○回転速度と段階数 ： 公転（10段階設定 、約230～1000rpm） 自転(10段階設定、公転の約0.0～1.0倍)○設定時間 ： 10～300秒×3ステップ 合計900以下 （10秒単位）○電源 ： 単相AC200V、50/60Hz 2.0kw○外形寸法 ： 約W570mm…
アイグラフィックス UVコンベア ECS-401GX 管理番号07949
・年式：2003年・最大ワーク寸法：W250mm×H100mm max・照射器反射板：コールドミラー集光型 (100mm)・有効照射範囲：180mm(均斉度80%)・照射距離：100mm ～ 200mm・発光長：250mm・ランプ出力：2kw/3kw/4kw 3段階切替え・コンベアベルト：ステンレスメッシュ ( 幅： 250mm ）・コンベアスピード：0.8～8.0m/min(50Hz) 0.97…
電子磁気工業 コンデンサ式着脱磁電源装置 CM-2520-30型 管理番号07873
○年 式 ： 2015年○主な仕様・着脱磁電源部充電電圧 ： DC50～2500V（連続可変） コンデンサ容量 ： 2000μF （2500WV 200μF×10本）許容出力電流 ： 着磁 最大30000A、脱磁 最大10000A（波高値非繰返し）使用タクト ： 1回通電7秒以上休止主制御素子 ： サイリスタ、ダイオード寸 法 ： W670×D1250×H1257 約450Kg電 源 ：…
MEISO 万能型リワークステーション MS9000SAN 管理番号07849
・対象基板サイズ ： 50×50 ～ 400×500mm・対象基板厚 ： 0.5～2.5mm・最大基板重量 ： 約3.5kg ・対象部品 ： 一般的なSMD、QFP、SOP、BGA、CSP、LGA等・対象部品高さ ： 基板上面側 45ｍｍ（max） 基板下面側 25ｍｍ（max）・XYﾃｰﾌﾞﾙ調整幅 ： X ±約5ｍｍ Y ±約5ｍｍ・Z軸操作 …
スピードファム クリーンシステム 温純水乾燥ユニット M-01 管理番号07831
・装置概要 ： 洗浄後のワークの温純水乾燥・被洗浄物 ： 膜付ガラス、フィルム付きガラス・対象寸法 ： □100～370 × 470mm、 t0.7ｍｍ・電 源 ： φ3 200V 50Hz 約26kW・排 気 ： 約12ｍ3／min・純 水 ： 約5L／min・市水 ： 約10L／min～※温排水降温用・クリーンエア： 約24NL／min～・本体寸法 ： W16…
キーエンス 3-Axis YVO4レーザーマーカー MD-V9900 管理番号07808
印字方式 ： XYZ3軸同時スキャニング方式印字レーザ ： YVO4レーザ波 長 ： 1064nm平均出力 ： 13Wガイドレーザ ： 半導体レーザ マーキングスペース ： 120×120×42mm基準ワークディスタンス（±可変動） ： 189mm（±21mm）印字分解能 ： 2μmスキャンスピード ： 最大12000mm／ｓ印字種類 ： オリジナルフォント、ユーザフォント/Ｔ…
キーエンス ハイブリットミキサー HM-500 管理番号07722
￥２２０，０００．－（送料／消費税別途）・ タイマー設定範囲：10秒～30分・ ACケーブル付属・ カウンターウエイト（目盛110～360g）・ 寸法：W 約300 × D 約350 × H 約400mm・ 重量：約23kg・ 電源：単相AC100V 50/60Hz 【機器ステータス】取扱説明書なし 【半導体製造装置】 【ディスペンサ】 【その他装置】 【電子部品製造装置】 【その…
HOYA UV照射システム EXECURE-4000-D 管理番号07754
￥２００，０００．－（送料／消費税別途）○商品構成・仕様 ・EXECURE-4000本体部 200W水銀キセノンランプ（型式200MX） ・2分岐ライトガイド FGB7F1000UVR-HT4 入射径：φ7mm 出射径：φ5mm×2 ファイバー長：1000mm ・レンズユニット 入射径：φ14mm 出射径：φ7.5mm ・紫外線初期強度 約4000mW／cm2（※） ・…
Diener セミオート 低圧プラズマ装置 Pico 管理番号07638
・ 年式 ： 2012年式・ 電源 ： AC100V 50/60Hz 付属トランスにて230Vに昇圧・ 接続ガス ： 2ライン・ ワークトレイサイズ ： W130×D290mm・ チャンバサイズ ； W160×D320×H160mm・ 高周波電源 ： 13.56MHz オートチューニングのプラズマ装置・ 排気 ： ロータリーポンプ 【機器ステータス】取扱説明書ありロータリーポンプ、トランス付属…
日立 プラズマ洗浄装置 SPC-100B 管理番号07659
・ 年 式 ： 2007年・ 電極構造 ： RIE、PE・ 高周波電源 ： 13.56Mhz、Max600W、RFオートマッチング・処理エリア ： 約□300mm・ 排気系 ： ロータリーポンプ・ 電源 ： 3相200V 50/60Hz・ ガス導入 ： O2、Ar 【機器ステータス】取扱説明書あり。前面パネルなし、試料投入は手動となります。 【半導体製造装置】 【ウエハ製造（前工程）…
日本電子 エレメントアナライザ JSX-3202EV 管理番号06701
年 式 ： 2009年検出元素範囲 ： 11（Na）～92（U）Ｘ線発生装置 ： 5～50kV、1ｍA、50Ｗターゲット ： Rhフィルタ ： 4種自動交換（オープン含め）コリメータ ： 1mmφ、3mmφ、7mmφ検 出 器 ： Si（Li）半導体検出器液体窒素 ： 3L 消費量1L／日試料室サイズ ： φ300mm×150mmＨ試料室雰囲気 ： 大気…
島津製作所 蛍光X線分析装置 EDX-720 管理番号06963
・測定方法 ： エネルギー分散型・測定対象 ： 個体、液体、粉体 ・測定範囲 ： 11（Na）～92（U）・コリメーター ： 1、3、5、10mm・試料形状 ： 最大300mmφ×H150mm・X線発生部 ： X線管 Rhターゲット 電圧：5～50kV 電流：1～1000μA 冷却方式：空冷・検出器 ： 型式：Si（Li）半導体検…
MECC ラボ用ナノファイバー紡糸装置 NF-500S 管理番号07319
年 式 ： 2014年式紡 糸 法 ： エレクトロスピニング法商品構成 ： 本体部、作成室用除湿装置、チラー(RKE2200B1-VW-G1)、 クリップスピナレット、HEPA FFU、外 寸 ： 本体 W2150×D1715xH2200mm（弊社測定）電 源 ： AC85～125V 、 50／60Hz 【機器ステータス】取扱説明書あり…
アシザワ・ファインテック 湿式微粉砕機 ラボスター ミニ LMZ015 管理番号07408
研究開発用ビーズミルの最小型テーブルサイズ実験機・型式：LMZ015・年式：2006年・ビーズミル回転数：1295 ～4530rpm・ビーズミル周速：4～14m/sec・処理量：0.1～0.5 L/min・ベッセル容量：0.15 L・溶液部材質：ベッセル：PSZ ローター：PSZ スクリーン：SUS304・冷却媒体：チラー水・電源：AC200V 50Hz(単相) 【機器…
日立テクノロジーアンドサービス 全自動落下試験装置 FIT-1800S 管理番号07611
・年式：2008年・対応ワーク寸法：W53×L112×D17mm・落下方向：平面・横・縦の3方向・落下高さ：自由落下換算10mm～1800mm 強制落下動作範囲：600～1800mm 自由落下動作範囲：10～1000mm 着地後瞬時把持動作：150mm以上 連続落下回数：65000回(入力設定MAX)・操作方法：タッチパネル対話式操作・外形：W900×H1980×D950mm・本体重量：約…
パナソニック電工SUNX UV照射装置 ANUP8308T137 管理番号07518
￥２４０，０００．－（送料／消費税別途） 入力電源：200V単相 50/60Hz 30Aランプ：3.0KW×1灯（ANUM30021）接続ケーブル：3m付（但し、1次側電源ケーブルは付属しておりません。）外部出力信号（モニター機能）：ランプ点灯検知・ランプ安定検知・異常検知・ シャッター開閉検知外部制御（リモート機能）：ランプON/OFF・シャッター開閉・ラン…
キーエンス ハイパフォーマンスインクジェットプリンタ MK-9000 管理番号07336
￥３５０，０００．－（送料／消費税別途）・年式：2012年式・型式： コントローラ MK-9000MF ヘッドユニット MK-9010 コンソール MK-P3・電源電圧：AC100～240V 50/60Hz・消費電力：200VA・文字高：1～11mm・最大印字行数：6行・最高印字速度：2273文字/秒・コンソール表示言語：日本語、英語、中国語・インターフェイス：RS-232C・使用周囲温度：5～3…
キーエンス ハイパフォーマンスインクジェットプリンタ MK-9000 管理番号06670
・年式：2014年製 ・型式： コントローラ MK-9000MF ヘッドユニット MK-9010 コンソール MK-P3・電源電圧：AC100～240V 50/60Hz・消費電力：200VA・文字高：1～11mm・最大印字行数：6行・最高印字速度：2273文字/秒・コンソール表示言語：日本語、英語、中国語・インターフェイス：RS-232C・使用周囲温度：5～35℃・使用周囲湿度：0～80%RH(結…
MECC ラボ用ナノファイバー紡糸装置 NANON-3 管理番号07318
年 式 ： 2012年式主な作製物 ： 不織布、配向膜、芯鞘ファイバー、中空ファイバー紡 糸 法 ： エレクトロスピニング法商品構成 ： 本体部、少量溶液紡糸スピナレット、プレートコレクター、 ドラムコレクター（φ200mm×W200mm）外 寸 ： W830×D630xH880mm※突起物は除く重 量 ： 約140kg電 源 ： AC10…
Honle 紫外線照射装置 SOL500RF2 管理番号06538
￥２５０，０００．－（送料／消費税別途） ・ 電源 ： AC100V（トランス装置により220Vに昇圧）・ 重量 ： 約50Kg（キャスター付き）・ 寸法 ： 幅530×奥行き470×高さ1510mm・ 照射口寸法 ： 幅250×奥行き350mm・ 付属品 ： 豊澄電源機器㈱ トランスフォーマー honle 紫外線照射電源装置 VG-Kasten 500W【機…
日立 プラズマ洗浄機 SPC-100（B+H） 管理番号06956
・ 年 式 ： 2011年・ 電極構造 ： RIE、PE・ 高周波電源 ： 13.56Mhz、Max600W、RFオートマッチング・ 排気系 ： ロータリーポンプ・ 電源 ： 3相200V 50/60Hz 【機器ステータス】取扱説明書あり 【半導体製造装置】 【ウエハ製造（前工程）】 【品管 品証 関連】 【その他装置】 【電子部品製造装置】 【その他製造装置】 【真空機器】 【その…
EME 真空撹拌脱泡ミキサー VMX-N550 管理番号06903
制御方式 ： 自転/公転独立運転最大容量 ： 550ｃｃ 1個掛最大荷重 ： 1100g 1個掛公転速度 ： 600～1800rpm自転速度 ： 0～700rpm電源 ： 3相 AC200V消費電流 ： 2.0KVA外形寸法 ： W710×D640×H1000mm質量 ： 約220Kg 【機器ステータス】取扱説明書なし
Daitron LEDブレーキング装置 DCMM-01 管理番号06894
・年 式 ： 2010年・対象デバイス ： セラミックパッケージ基板（70×67mm t0.6ｍｍ）・Y軸有効ストローク ： 80ｍｍ・θ軸メカストローク ： 120°・画像処理部 ： 二値化、グレー処理併用・電 源 ： AC100V 1.5KVA寸法・重量 ： W700×D792×H1448ｍｍ 550kg 【機器ステータス】取扱説明書あり 【半導体製造…
クラボウ 真空撹拌脱泡機 KK-VT300 管理番号06873
○標準容器 ： HDPE製300ml専用容器○最大処理量 ： 310g×2カップ、アダプターにより55mlシリンジ対応○回転速度と段階数 ： 公転（9段階、レベル1から9、約270～1420rpm） 自転(10段階、レベル0から9、公転の約0.0～1.0倍) ※ただし、公転速度レベルにより制限有り○設定時間 ： 10～300秒×5ステ…
