アサヒ理化製作所セラミック電気管状炉 ARF1110-500-80KC 管理番号13230

【構成】

　・１ゾーン式セラミック電気管状炉：ARF1110-500-80KC

　・プログラム温度コントローラ：AGC-1P

　《管状炉部》

　　・ヒーター：カンタル線

　　・最高限界温度：1200℃（耐熱温度）

　　・使用温度範囲：常温から1150℃

　　・常温使用温度：1100℃

　　・炉体：セラミック成形品

　　・外観ケース形状：アルミケース開閉式

　　・センサー挿入口：4φ（3.2φシース用）

　　・炉全長：500mm、炉内寸法：φ110×450mm、炉口径：最大φ100mmまで

　　・外寸：約W500×D380×350mm

　《温度コントローラ部》

　　・温度制御帆方式：PID制御（オートチューニング機能付）

　　・制御方式：サイリスター方式（ゼロクロス）

　　・温度設定範囲：0～1200℃（任意の温度設定可）、温度設定単位：1℃単位

　　・サンプリング周期：0.05秒

　　・プログラム数：1パターン 8ステップ

　　・温度センサー：K熱電対

　　・付加機能：加熱防止(警報)機構 2系統

　　　　　　　　・温度調節器(上限絶対値警報)

　　　　　　　　・加熱防止器(上限設定地警報)

　　　　　　　　漏電ブレーカー／過電流防止ヒューズ

　　・外寸：約W320×D310×H110mm

　・電源：単相AC200V

取扱説明書あり
※炉内に多少のひび及び、補修痕があります。

過去の履歴

顕微鏡: 実体顕微鏡; 金属顕微鏡半導体検査顕微鏡; 測定顕微鏡投影機; 電子顕微鏡; レーザー顕微鏡; デジタルマイクロスコープ; 関連機器
恒温槽: 環境試験機器; 恒温器オーブン; その他恒温槽; チラー
工業検査機器（電子・金属）: 寸法・形状を測る; 膜厚を測る; 強度を測る; 成分を調べる; 非破壊検査; 色を測る; その他検査機器
半導体製造装置: ウエハ製造（前工程）; ダイサー関連; ボンダー関連; BGA・CSP製造装置; テスティング装置; ディスペンサ; 品管品証関連; その他装置
電子部品製造装置: FPC製造関連; SMT実装関連; FPD製造関連; リードフレーム製造関連; SMD製造関連; その他製造装置
真空機器: 真空ポンプ; 成膜装置; その他真空機器
クリーンルーム機器: クリーンベンチ・ブース; パーティクルカウンター; その他機器
電子工業分野その他: レーザー関連機器; 電子計測器; UV関連機器; 光通信機器
理化学機器（バイオ生物）: 生物顕微鏡; 試験分析機器; ラボ機材; バイオ DNA 機器; 保冷庫フリーザー; インキュベーター; その他機器理化学機器
プレス機械・工作機械: プレス機械; 工作機械; その他機械
その他分類

所在地　/　連絡先

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福岡県北九州市小倉北区浅野3丁目8番1号　AIMビル6F
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