ミカサ スピンコ－タ－ 1H-360S 管理番号09962
〇主な仕様・回転数 ： 300～5,000rpm・回転精度 ： ±1rpm・シーケンス： 最大100ステップ、最長999.9sec（合計値で）※1パターン・試料室内径： φ360ｍｍ・試料台 ： φ150ｍｍ※ご相談ください。・寸法・重量： W505×D585×H350（ｍｍ）・約45kg・電 源 ： AC100V 50／60 7A・真空源 ： -0.08～-0.1MPa・付属品 ： 真…
テクノビジョン UVフィルム硬化装置 UVC-408 管理番号09682
ワークサイズ：200mm(8インチウェハー)まで光源：水銀ランプ(ピーク波長：365nm)外寸：約W400×D665×H435mm重量：約45Kg電源：単相 AC200V (50Hz仕様)ユーティリティエアー：0.35～0.40MPaパージガス：N2 0～30l/min 0.2MPa排気：一般排気(冷却ファン内蔵) 【機器ステータス】取扱説明書あり50Hz仕様となっておりますが、60Hz仕様へ…
ユニオン光学 両面マスクアライナ PEM-800 管理番号09860
・フォトマスクサイズ 標準対応サイズ：□2.5インチ、□3インチ、□4インチ、□5インチ 標準対応厚：0.06インチ、0.09インチ マスクホルダ(交換式)：□5インチ用付属 マスクホルダ移動：マニュアルスライダ方式 マスク位置決め：微調整用ハンドルによるX・Yマニュアル移動（X・Yストローク±3mm）・ウェハサイズ 標準対応サイズ：□2.5インチ、□3インチ、□4インチ、□5インチ …
清和光学 スプレー・パドル小型現像装置 AD-1200 管理番号09714
チャンバー材質 ： ステンレス製基板サイズ ： φ4～6インチ又は□100～150mm基板テーブル回転数 ： ～3000rpm薬液吐出 ： スプレー吐出(スイングノズル式)レシピ数 ： 10プロセス ： 現像液 1系統 リンス 1系統使用薬液 ： アルカリ系現像液、アルコール系溶剤電 源 ： AC100V 4A寸 法…
モリエンジニアリング バレル型アッシング装置 PB-1000 管理番号09258
・本体 石英ガラスチャンバ寸法：φ300×L500mm 電極構造：分割対向形 真空計：ピラニ真空計・高周波電源装置 発信器出力電力：1000W 発信周波数：13.56Mhz 出力設定方法：マニュアル式 マッチング調整方式：オートチューニング方式(マニュアル調整可能)・排気装置 処理室排気：スローバキューム方式 真空ポンプ：ULVAC EC403（オイルミストトラップ付き）・外寸：…
商談中
アユミ工業 ガラス熱融着システム EB-45D 管理番号08136
年式：2003年処理物：30×70mm or 60×70mmのパイレックス同士処理量：1治具／１バッチ加熱温度：MAX900℃雰囲気ガス：置換ガス 2種類導入可能真空槽寸法：W500×L445×H300材質：SUS304冷却：水冷パイプ方式荷重量：1000kg操作モード：自動運転モード、手動運転モード、設定モード外寸：約 W1115×D1170×H1973mm重量：約1300kg[ユーティリティ]…
Karl SUSS 手動レジストコータ RC8 MS3 管理番号07347
【特価販売】 ¥３００，０００．－（送料／消費税別途） 対象サイズ ： ～8インチ、6×6角Maximum Speed ： ～3000 rpmAcceleration ： ～5000 rpm/s外形寸法 ： 約W600×D750×H1350mm電源 ： 単相220V、50Hz※コンプレッサー等圧縮空気系統、吸着用真空源はご準備下さい。※電源投入、回転、ノズル移動動作等を確認済み※実際のコ…
Diener セミオート 低圧プラズマ装置 Pico 管理番号07638
【特価販売】 ¥１，０００，０００．－（送料／消費税別途） ・ 年式 ： 2012年式・ 電源 ： AC100V 50/60Hz 付属トランスにて230Vに昇圧・ 接続ガス ： 2ライン・ ワークトレイサイズ ： W130×D290mm・ チャンバサイズ ； W160×D320×H160mm・ 高周波電源 ： 13.56MHz オートチューニングのプラズマ装置・ 排気 ： ロータリーポン…
日立 プラズマ洗浄装置 SPC-100B 管理番号07659
【特価販売】 ¥１，５００，０００．－（送料／消費税別途） ・ 年 式 ： 2007年・ 電極構造 ： RIE、PE・ 高周波電源 ： 13.56Mhz、Max600W、RFオートマッチング・処理エリア ： 約□300mm・ 排気系 ： ロータリーポンプ・ 電源 ： 3相200V 50/60Hz・ ガス導入 ： O2、Ar 【機器ステータス】取扱説明書あり。前面パネルなし、試料投入は手動と…
日立 プラズマ洗浄機 SPC-100（B+H） 管理番号06956
・ 年 式 ： 2012年・ 電極構造 ： RIE、PE・ 高周波電源 ： 13.56Mhz、Max600W、RFオートマッチング・ 排気系 ： ロータリーポンプ・ 電源 ： 3相200V 50/60Hz 【機器ステータス】取扱説明書あり 【半導体製造装置】 【ウエハ製造（前工程）】 【品管 品証 関連】 【その他装置】 【電子部品製造装置】 【その他製造装置】 【真空機…
テクノデザインラボ セミオート3槽式超音波洗浄機 TDL010-1000 管理番号06294
【特価販売】 ¥７００，０００．－（送料／消費税別途） （主な仕様）洗浄方法： 有機溶剤（NEP）洗浄及び純水ダンプリンスする装置です。処理方法： 温循環ろ過方式の超音波洗浄処理槽-1の仕様： ①手動排出機能 ②超音波900W×150khz ③循環ろ過機能（10μ） 処理槽-1の仕様： ④MAX60℃加熱機能（温調制御） ⑤処理枚数管理 自動廃液処理槽-2の仕様： ①手動排出機能 ②超音…
超音波工業 2槽式超音波洗浄機 CM-634 管理番号06293
【特価販売】 ¥７５０，０００．－（送料／消費税別途） 超音波発生装置 ： 発振器出力 900W 放射面寸法 160×245㎜ 周波数 150kHz 洗 浄 槽 ： 2槽洗浄液仕込量 ： 第1槽約60L（パインアルファST-230） 第2槽32L（純水）洗 浄 時 間 ： タイマーにより任意設定電 源 ： 三相200V±…
